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辅助工艺

从模具表面处理到制品后加工——喷砂、抛光、晒纹、雕刻、电镀、喷油、UV改质、点胶滴胶等工艺详解。

模具表面处理工艺

喷砂、抛光、晒纹、等离子——四大表面处理工艺赋予模具型腔理想的表面品质, 直接决定硅胶制品的外观、脱模性能和功能特性。

喷砂处理

喷砂处理

Sandblasting

利用高速砂流冲击模具型腔表面,形成均匀的微观粗糙度。喷砂处理不仅能清洁模具表面、去除加工刀纹,更重要的是为后续的表面处理(如镀层、晒纹)提供理想的附着基础。橡楚根据模具材质和最终表面要求,选用不同目数的刚玉砂或玻璃珠。

处理前

加工刀纹明显,Ra 1.6-3.2μm

处理后

均匀哑光面,Ra 0.8-1.6μm

喷砂后的微观粗糙表面可显著提升脱模剂附着力和镀层结合力,延长模具使用寿命。

工艺参数

砂料类型白刚玉 / 棕刚玉 / 玻璃珠
常用目数80# ~ 320#
表面粗糙度Ra 0.8 ~ 3.2 μm(可控)
适用模具钢P20 / 718H / S136 / NAK80
处理时间视型腔面积,通常 5-30 分钟
后续工序可接镀铬 / 镀镍 / 晒纹
镜面抛光

镜面抛光

Mirror Polishing

通过多级研磨和抛光工序,将模具型腔表面加工至镜面级光洁度。镜面抛光是高透明硅胶制品(如光学透镜、LED 封装、高透奶嘴)的必备前处理工艺,直接决定了制品的透明度和表面品质。橡楚可达到 SPI A1 级镜面标准。

处理前

EDM 纹面,Ra 1.6-3.2μm

处理后

镜面,Ra ≤ 0.025μm

A1 级镜面模具生产的 LSR 制品透光率可达 92% 以上,满足光学级透明要求。

工艺参数

抛光等级SPI A1 / A2 / A3(A1 为最高镜面级)
表面粗糙度Ra ≤ 0.025 μm(A1 级)
适用模具钢S136 / NAK80 / 8407(高镜面钢)
工序道次粗磨→精磨→粗抛→精抛→镜面抛
检测标准目视无划痕 + 粗糙度仪检测
适用制品光学透镜 / 高透奶嘴 / 透明密封件
晒纹 / 蚀纹

晒纹 / 蚀纹

Chemical Texturing

通过化学蚀刻或激光雕刻在模具型腔表面形成预设纹理图案,使硅胶制品表面获得皮纹、磨砂、几何纹等装饰性和功能性纹理。橡楚支持 YS / MT / VDI 等主流纹板标准,也可按客户样板定制开发专属纹理。

处理前

光滑模具表面

处理后

预设纹理图案

支持 YS/MT/VDI 全系列纹板标准,可来样定制专属纹理,满足品牌差异化需求。

工艺参数

纹板标准YS / MT / VDI 3400 / 定制
纹理深度0.01 ~ 0.15 mm(按纹板号)
加工方式化学蚀刻 / 激光雕刻
适用模具钢P20 / 718H / NAK80 / S136
纹理一致性同批次 ±5% 深度公差
应用效果装饰 / 防滑 / 防指纹 / 消光
等离子处理

等离子处理

Plasma Treatment

利用低温等离子体对模具型腔表面进行清洁和活化,去除有机污染物、提高表面能。等离子处理是粘接/包胶工艺前的重要预处理步骤,可显著提升硅胶与金属/塑料基材的粘接强度,也是无底涂自粘工艺的关键配套技术。

处理前

表面能 < 30 mN/m,粘接差

处理后

表面能 > 60 mN/m,粘接优异

等离子处理可使硅胶表面能从 <30 mN/m 提升至 >60 mN/m,粘接强度提升 3-5 倍。

工艺参数

处理方式大气压等离子 / 低压等离子
处理气体空气 / Ar / O₂ / N₂
表面能提升从 < 30 mN/m 提升至 > 60 mN/m
处理速度10-50 mm/s(在线式)
有效时间处理后 30 分钟内完成粘接
适用场景包胶前处理 / 印刷前处理 / 粘接前活化

表面处理工艺速查

工艺表面效果Ra 范围适用场景加工周期
喷砂均匀哑光Ra 0.8-3.2μm镀层前处理 / 消光面0.5-1 天
镜面抛光镜面高光Ra ≤ 0.025μm光学透镜 / 高透制品1-3 天
晒纹皮纹/磨砂/几何纹按纹板号装饰 / 防滑 / 消光2-5 天
等离子表面活化不改变粗糙度粘接/包胶前活化在线即时

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